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自動化設備設計開發與組裝
奈米壓印技術
金屬接觸轉印微影製程技術
無縫滾筒模仁製作技術
準分子雷射微細加工
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自動化設備設計開發與組裝
可隨著科技產業蓬勃發展,本團隊於科技的推動也不遺餘力,可針對不同產業進行研發機台從設計製作、組裝測試、系統整合等皆獨立完成,使得在製程上有相當大的施做自由度。
奈米壓印技術
透過奈米壓印製程結合金屬轉印技術,可於基板上佈值奈米金屬點,成功於可撓式基板上產生侷域性表面電漿共振效應(LSPR),可用於製作曲面貼覆性質的感測元件,或更進一步地輔以蝕刻技術製作週期性微奈米結構,改善基板的光學特性,應用在節能玻璃上以減少熱輻射傳遞、於藍寶石基板上製作抗反射結構,大幅提升光穿透效率。目前研究方面也將由平面奈米壓印轉向於曲面壓印,致力於將微奈米圖形轉移至曲面透鏡上。
金屬接觸轉印微影製程技術
金屬接觸轉印微影技術是一種創新混合型技術,具有低成本、高成功率的奈微米圖形轉印,主要特點在於克服傳統奈米壓印技術上光阻殘餘層所衍生的壓印失敗問題,同時經由自行設計的壓印系統能夠均勻完整的轉印 6” Wafer 大小的金屬圖形,目前最小線寬達到 60 nm。
無縫滾筒模仁製作技術
以創新的方法利用準分子雷射加工具有高聚光效果之微透鏡陣列之光罩,藉由微透鏡陣列聚光的特性進行曲面光筆直寫微影製程,完成具有微米尺寸波浪結構的無縫滾筒模仁,其無縫滾筒模仁可經由 UV 滾印製程完整的轉移至 PET 基板,完成微米尺寸波浪結構的複製。同時,於 2016 年也開創出無光罩式外滾筒微影製程技術。
準分子雷射微細加工
本公司技術準分子雷射微加工系統由三部分建構而成,分別為雷射光源,光學透鏡系統和精密控制位移伺服平台。其加工方法和特點分為三個部分: 一、雙軸拖拉法,可加工大面積且周期性微透鏡陣列 二、旋轉加工法,適合加工微噴嘴和微擴散器 三、孔洞面積法,乃利用光罩透光率分佈不同而製作出所期望的結構。利用雙軸拖拉法加工大面積微透鏡陣列,搭配平行紫外光和位移平台,將紫外光光束聚焦進行黃光微影製成。